本课题以半导体芯片制程中的氧化硅绝缘层为抛光对象,开展CeO2基稀土抛光液的研究工作,主要研究目标是能够制备出满足集成电路芯片抛光要求的CeO2基抛光液。
目前,我国的集成电路生产所采用的抛光液全部为进口,国内几乎没有生产。进口抛光液的在国内的售价非常昂贵,增加了芯片的生产成本。经过本课题的研究,开发出的稀土抛光液可以取代部分国外产品,降低市场价格,进而降低芯片的制造成本,提高我国半导体制造行业的竞争力。预计如果项目完成后并进行转化,可形成近亿元产业,产生良好的经济效益。
此项目的成功开发促进了我国集成电路制造工艺的发展,对提升我国半导体工业的竞争力起到积极作用。而对稀土工业而言,半导体用稀土抛光液的成功开发,有效的改善了我国抛光粉企业的产品结构,对提升我国稀土产品的附加值,提升稀土研究领域的技术水平,都将发挥重要作用。